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我公司研发制造的半导体光刻机专用超精密气浮导轨通过韩国LTD亨利特公司的验收

2018年11月我公司与韩国LTD亨利特公司签订了为其半导体光刻机提供超精密气浮导轨的供货合同。


我公司根据客户提出的技术要求,提出了详细的设计制造方案,经客户审核通过后,投入了生产加工。经过2个月的努力,超精密气浮导轨安装在客户的光刻机上,通过严格的检测使用后,各项技术指标完全达到设计要求,一次通过客户验收。

     光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。光刻意思是用光来制作一个图形;然后在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。通俗简单的说,制造的芯片就是用光刻机来完成的,没有光刻机,设计得再好的芯片都无法生产出来,这个制造芯片的过程就是一个光刻的过程。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器,其制造难度之大,成本相当高。目前荷兰ASML的7nm工艺的光刻机是全球最先进的。全世界最出名的就是荷兰ASML(阿斯麦市场占比80%,镜头来自德国),其次是日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。



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